京都玉崎介绍什么是半导体曝光设备？

京都玉崎介绍什么是半导体曝光设备？

半导体曝光设备是半导体制造过程中用于在硅片上绘制电路图案的设备。强大的紫外光透过光掩模，作为电路图案的原型，电路图案被转移到涂有光刻胶的硅晶片上。近年来，一些设备使用波长为 13 nm 的激光（称为 EUV）来微型化精细电路图案。由于定位等要求精度，因此设备价格昂贵。

全球电子设备市场持续扩大，支撑其的半导体产业变得越来越重要。尽管2019年全球半导体市场经历了负增长，但尽管过去经历过雷曼冲击，但仍持续扩张。近年来，存储器的技术发展从小型化转向3D技术，蚀刻技术的重要性日益增加。